Rasterelektronenmikroskopie

REM-Bild Goldpulver
© Fraunhofer IFAM
REM-Bild Goldpulver
Magnetisch/elektrostatische GEMINI-Objektivlinse
© Fraunhofer IFAM
Magnetisch/elektrostatische GEMINI-Objektivlinse

Rasterelektronenmikroskopie (REM) mit energiedispersiver Röntgenmikroanalyse (EDX) und Ionenstrahlätzung (FIB)

Mithilfe der analytischen Elektronenmikroskopie können stark vergrößerte Abbildungen mit hoher Tiefenschärfe erzielt werden.

Dies ist besonders dann wichtig, wenn raue Oberflächenstrukturen untersucht werden sollen. Weiterhin können direkt Informationen über die chemische Zusammensetzung im Mikrobereich und die Phasenzusammensetzung der untersuchten Probe erhalten werden.

Mit den am Fraunhofer IFAM vorhandenen Rasterelektronenmikroskopen (REM) ist es möglich, Strukturen bis zu 100 000-fach bei hoher Tiefenschärfe vergrößert abzubilden. Durch einen fein fokussierten Elektronenstrahl gelingt es, Strukturen bis zu 0.001 µm aufzulösen. Die Beschleunigungsspannung für den auf die Probenoberfläche ausgerichteten Elektronenstrahl kann zwischen 300 V und 30 kV eingestellt werden. Die emittierten Sekundär- und Rückstreuelektronen geben Aufschluss über die Oberflächenstruktur. Mithilfe der Rückstreuelektronen können außerdem Abbildungen im Materialkontrast erzeugt werden.

In Zweistrahlanordnung mit einem Ionenstrahl können gezielt Ätzungen in das Probenmaterial hinein präpariert und die Schnittflächen rasterelektronenmikroskopisch abgebildet werden.

Röntgenmikroanalyse (EDX)

Elemente: alle Elemente des Periodensystems ab Kohlenstoff
Gerät: EDX-Oxford INCA mit Si- und Germanium Detektor

Kompetenzen

  • Bruchflächenuntersuchungen
  • Oberflächentopografieuntersuchungen
  • Pulveruntersuchungen (auch Nano-Pulver)
  • Röntgenmikroanalyse (EDX) Punkt, Linien, Verteilungsbilder
  • Ionenstrahlätzungen (FIB)
  • FIB/REM Untersuchungen auch unter Cryo-Bedingungen

Geräte

  • Hochauflösendes analytisches FE-REM Leo 1530 Gemini mit EDX, (REM-Auflösung 1 nm)
  • Analytisches REM Leo 438 VP mit EDX
  • REM-Untersuchungen bei einem Partialdruck bis 300 Pa
  • Elektronen-Ionen-Zweistrahlsystem FEI Helios NanoLab 600 mit EDX (Oxford INCA)

Erfahrung praktisch nutzen

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