Chemische Oberflächenanalyse mit höchster Auflösung
Die Flugzeit-Sekundärionenmassenspektrometrie (ToF-SIMS) ist eine hochempfindliche Methode zur Analyse der molekularen Zusammensetzung von Oberflächen. ToF-SIMS ist unverzichtbar für industrielle Schadensanalyse und Qualitätssicherung und eignet sich ideal zur Aufklärung von Schichtaufbauten, Identifikation filmischer oder partikulärer Kontaminationen und Schadensanalyse an Beschichtungen, Klebungen und Lackierungen – zum Beispiel in der Elektronik, Medizintechnik, Kunststoff- und Lackindustrie oder in der Materialforschung.
Funktionsprinzip – so arbeitet ToF-SIMS
Bei der ToF-SIMS-Analyse wird die Probenoberfläche mit einem rasternden Primärionenstrahl beschossen. Die auftreffenden Ionen lösen dabei Sekundärionen aus den obersten Atomlagen der Probe heraus. Das Masse dieser freigesetzten Teilchen wird anschließend mithilfe eines Flugzeitanalysators untersucht:
- Leichte Ionen erreichen den Detektor schneller, schwere Ionen langsamer.
- Das Ergebnis ist ein vollständiges Massenspektrum, das alle erfassten Ionen darstellt.
Durch die Messung an vielen Rasterpunkten entsteht eine chemische Karte der Oberfläche – quasi ein 2D-Bild, in dem die Verteilung bestimmter Elemente oder Moleküle sichtbar wird.
Für Tiefenprofile wird die Oberfläche schrittweise mit einer zusätzlichen Sputterquelle abgetragen. So lassen sich Schichtaufbauten oder Verunreinigungen unterhalb der Oberfläche in 3D darstellen.
Fraunhofer-Institut für Fertigungstechnik und Angewandte Materialforschung IFAM